Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率

Hellma氟化鈣（CaF?）LD-A材料高透光率

Hellma氟化鈣LD-A型號核心技術優勢

193nm深紫外波段專用優化，超高透過率與低吸收損耗

Hellma CaF? LD-A材料是針對193nm ArF準分子激光波段定向開發的高純光學級材料，在深紫外區域具備的光學傳輸性能。常規光學玻璃、石英材料在193nm波段會出現強烈吸收與透過率衰減，無法滿足激光傳輸與光刻成像需求，而LD-A型號氟化鈣單晶在193nm處透過率可達90%以上，且吸收系數極低，幾乎不產生激光能量損耗與熱累積。材料經過紫外波段專屬退火、雜質去除、晶格優化處理，消除了色心、空位、金屬離子等導致紫外吸收的缺陷，保證在高功率紫外激光連續照射下不褪色、不損傷、不改變光學性能，是193nm光刻系統、激光清洗、紫外光譜檢測系統的理想基材。

高品質單晶結構與<111>優晶體取向，光學均勻性行業

該產品采用單晶（monokristallin）結構，整體由單一連續晶格組成，無晶界、無位錯聚集、無微裂紋、無雜質偏析，光學均勻性遠超多晶氟化鈣與普通熔融石英。單晶結構可保證折射率均勻一致，避免光線傳輸過程中的散射、畸變、光斑離散，保證成像精度與激光傳輸質量。

同時產品采用<111>晶體取向，這是氟化鈣材料在深紫外激光應用中經過大量驗證的優取向。<111>晶面具備最高的結構對稱性、低的雙折射率、優的應力分布特性，可顯著降低激光誘導損傷閾值（LIDT）敏感性，提升元件抗高功率激光沖擊能力；在高溫、高壓、強激光輻射環境下，<111>取向的晶格結構更穩定，不會出現應力開裂、折射率畸變、雙折射增大等問題，保證光學系統長期穩定運行漢達森yyds吳亞男。

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